Разработки
1. Эллипсометр для измерений параметров сверхтонких (0.5 — 10 нм) пленок и свойств веществ в глубоком ультрафиолете.
Область применения: разработка и совершенствование процессов фотолитографии; проверка свойств фоторезиста, антиотражающих покрытий, подзатворных диэлектриков; характеризация ультратонких слоев при производстве накопителей на жестких магнитных дисках; контроль модифицирования поверхностей.
Наше ключевое преимущество: запатентованный поляриметр нового типа. Позволяет работать в широчайшем диапазоне длин волн 130-1700 нм.
2. Эллипсометр для картографирования параметров тонкопленочных структур, осажденных на подложки больших площадей.
Область применения: контроль при массовом производстве тонкопленочных солнечных модулей на стекле и на гибкой ленте, телевизионных панелей, кремниевых подложек.
Наше ключевое преимущество: запатентованная принципиально новая оптическая схема эллипсометра. Повышает скорость картографирования в 10 раз по сравнению с аналогичными приборами. Сокращается время простоя производственного оборудования при устранении неполадок. Ускоряется процесс разработок новых технологий. Картографирование параметров тонких слоев при производстве по технологии roll-to-roll.
3. Эллипсометр для измерений в режиме реального времени.
Область применения: контроль в реальном времени процессов осаждения в вакуумных камерах.
Наше ключевое преимущество: новая оптическая схема, позволяющая проводить измерения за время порядка 10 мс с высокой точностью.
2015 — 2024 ООО «Поларлайт». Все права защищены.
e-mail: info@polarlight.tech
Тел.: +7 905 266-43-41